卒業生のご活躍の情報が同窓会に届けられましたので、ホームページにて紹介いたします。
フラッシュメモリとその応用に関する世界最大のイベント「フラッシュメモリサミット（ＦＭＳ：Flash Memory Summit）」では、フラッシュメモリの技術と製品、市場に関して多大な貢献を成した人物を毎年、「Lifetime Achievement Award（生涯功績賞）」を授与することで表彰されています。
そのＦＭＳが２０２２年の生涯功績賞として、多値記憶セル（マルチレベルセル）技術の開発に貢献した人物３人に授与しました。
その中の一人が日本電気（当時）に半導体技術者として勤務していた北村嘉成（きたむら・よししげ）氏であり、同氏は天高１６期で、京都大学工学部卒業後、ＮＥＣでご勤務されておられた方です。
受賞は２０２２年度のことですが、２０２４年度の表彰を伝えるＷｅｂ記事の中で「生涯功績賞を日本人として2番目に授与された技術者」として北村氏が、当時のＦＭＳのプレスリリースと共に紹介されています。
https://eetimes.itmedia.co.jp/ee/articles/2408/20/news097.html